# 2025年新品發(fā)布會#

日期：2025年10月10日

時(shí)間：8：30-18：30

近期我司新推出升級了 ESA70WN適用于半導(dǎo)體、LCD制造等行業(yè)的腔室快速抽真空需求

1. 排量性能

• 極限真空度可達(dá)0.001Pa（10?3mbar），滿足高精度工藝的真空環(huán)境要求。

2. 結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)

• 干式無油設(shè)計(jì)，避免油污染風(fēng)險(xiǎn)，特別適合MO-CVD、光刻等對潔凈度要求高的場景。

• 多級螺桿壓縮技術(shù)，結(jié)合同步齒輪驅(qū)動，實(shí)現(xiàn)低振動（<4.5mm/s）和低噪音（<75dB）運(yùn)行。

3. 材料與兼容性

• 泵腔采用耐腐蝕合金（如316L不銹鋼），可處理氫氣、有機(jī)溶劑等腐蝕性氣體。

• 可選配PTFE涂層版本，增強(qiáng)對酸性氣體的耐受性。

產(chǎn)品特點(diǎn)

• 高效排氣：高排量設(shè)計(jì)縮短腔室抽氣時(shí)間，提升半導(dǎo)體產(chǎn)線吞吐效率。

• 穩(wěn)定性強(qiáng)：智能監(jiān)測系統(tǒng)實(shí)時(shí)追蹤軸承溫度、振動等參數(shù)，預(yù)測性維護(hù)準(zhǔn)確率達(dá)98%。

• 節(jié)能環(huán)保：IE5超高效電機(jī)（能效≥0.95）配合無油設(shè)計(jì)，降低能耗與廢液處理成本。

典型應(yīng)用場景

1. 半導(dǎo)體制造

• 晶圓鍍膜腔室的快速抽真空，減少工藝等待時(shí)間。

• 光刻膠曝光后的殘余氣體排除，避免污染敏感元件。

2. 顯示面板生產(chǎn)

• LCD濺射設(shè)備的真空維持，確保薄膜均勻性。

• 有機(jī)發(fā)光二極管（OLED）封裝腔室的氣體置換。

3. 化工與科研

• 實(shí)驗(yàn)室真空干燥系統(tǒng)的氣體回收，兼容有機(jī)溶劑。

• 光伏電池鍍膜工藝的惰性氣體環(huán)境控制